Přeskočit na obsah
Chemické procesní inženýrství a simulační metody I. (Teoretické podklady) - Tomáš Vaněk

Chemické procesní inženýrství a simulační metody I. (Teoretické podklady) - Tomáš Vaněk

Stabilní cena

Nejnižší cena za posledních 30 dní: 440 Kč (naposledy 9. 9. 2026).

442 Kč

VŠCHT Praha

Celý popis

Do obchodu

O produktu

První díl skript seznamuje čtenáře se základy procesního inženýrství a uvádí přehled všeho, co student potřebuje pro pochopení nejdůležitějšího nástroje, kterým jsou principy simulačních metod. V textu jsou popsány stacionární modely jednotkových operací, které slouží jako stavební prvky pro modely celých procesů a současně jsou zde představeny metody řešení simulačních modelů. Publikace také obsahuje přehled fyzikálně-chemických metod, které jsou pro simulační modely klíčové. Kromě stacionární simulace je pozornost věnována i dynamickému chování procesů včetně řídicího systému. V textu je také vyhrazen prostor pro základy teorie grafů, používané k analýze proudových schémat a pro přehled vybraných numerických metod.
Tip: Podívejte se také na další produkty z kategorie Knihy.

Vývoj ceny

Podobné produkty

Specifikace

EAN
9788075920836

Recenze

Recenze u nás zatím nikdo nenapsal — budete první?

Napsat recenzi

Před zveřejněním si recenzi jen rychle přečteme.

Další oblíbené produkty