
Plasma Etching - Sugawara, M. (Professor, Professor, Hachinohe Institute of Technology, Japan)
Stabilní cena
Aktuální cena je nejnižší za posledních 30 dní.
O produktu
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Tip: Podívejte se také na další produkty z kategorie Aplikovaná fyzika.
Vývoj ceny
Podobné produkty
Specifikace
- EAN
- 9780198562870
Recenze
Recenze u nás zatím nikdo nenapsal — budete první?











